COMMITTEE MEMBERS

ORGANIZING COMMITTEE

Conference Co-chairs

O. Sugihara (Utsunomiya Univ.)

H. Takahashi (Sophia Univ.)

 

Members

  M. Bunsen (Fukuoka Univ.)
  T. Endo (Mitsubishi Electric Corp.)
  N. Goto (Tokushima Univ.)
  M. Haruna (Osaka Univ.)
  K. Hotate (Toyota Tech. Institute)
  H. Kanamori (Sumitomo Electric Ind., Ltd.)
  K. Kato (Kyushu Univ.)
  K. Kishino (Sophia Univ.)
  K. Kodate (Univ. Electro-Communications)
  Y. Koike (Keio Univ.)
  T. Kojima (Fuji Xerox Co., Ltd.)
  S. Komatsu (Waseda Univ.)
  K. Kuroda (Utsunomiya Univ.)
  K. Maru (Kagawa Univ.)
  M. Mori (AIST)
  K. Nishizawa (Mirai IPTRC)
  S. Nunoue (Toshiba Corp.)
  K. Ogiwara (Konica Minolta Inc.)
  Y. Okino (Kansai Univ.)
  K. Omichi (Fujikura Ltd.)
  H. Takahashi (Oki Electric Industry Co., Ltd.)
  H. Toba (Nikon Corp.)
  K. Tsunetomo (Nippon Sheet Glass Co., Ltd.)
  K. Ueyanagi (TSS Co., Ltd.)
  S. Ura (Kyoto Inst. Tech.)
  T. Watanabe (Kagoshima Univ.)
  T. Yatagai (Utsunomiya Univ.)

  

Local Committee Members

  K. Kikushima (Univ. Toyama)
  M. Morimoto (Univ. Toyama)
  T. Maruyama (Kanazawa Univ.)
  S. Naka (Univ. Toyama)
  H. Okada (Univ. Toyama)
  M. Tokumitsu (Japan Advanced Institute of Sci. & Tech.)


INTERNATIONAL ADVISORY COMMITTEE

R. Baets (Univ. Gent)
A. Brӓuer (Fraunhofer IOF)
C. J. Chang-Hasnain (UC Berkeley)
K. J. Ebeling (Ulm Univ.)
S. Fleming (Univ. Sydney, retired)
M. T. Flores-Arias (Univ. Santiago de Compostela)
B. Y. Kim (KAIST)
M. Kujawinska (Warsaw Univ. Tech.)
Y. –H. Lee (KAIST)
Y. Liu (National Tsing Hua Univ.)
Y.-P. Park (Yonsei Univ.)
D. Richardson (Univ. Southampton)
G. C. Righini (Enrico Fermi Center)
P. Russell (Max Planck Institute)
H. K. Shin (Opticis Co., LTD)
Y. Suematsu (Tokyo Inst. Tech.)
H. Thienpont (Vrije Univ. Brussel)
C. S. Tsai (UC Irvine)
D. P. Tsai (Academia Sinica)

M. C. Wu (UC Berkeley)

 

PROGRAM COMMITTEE

Co-chairs

T. Arakawa (Yokohama National Univ.)
M. Kuwata (Mitsubishi Electric Corp.)

 

Domestic Members

  H. Fuji (Osaka Univ.)
  A. Funaki (Fujikura Ltd.)
  K. Goto (Tokai Univ., retired)
  K. Hamamoto (Kyushu Univ.)
  G. Hatakoshi (Waseda Univ.)
  K. Iga (Tokyo Inst. Tech.)
  M. Itoh (NTT Corp.)
  S. Iwamoto (Univ. Tokyo)
  E. Katayama (Furukawa Electric Co., Ltd.)
  R. Katayama (Fukuoka Inst. Tech.)
  S. Kimura (Toshiba Corp.)
  S. Kogo (Konica Minolta Inc.)
  Y. Kokubun (Chubu Univ.)
  R. Kou (AIST)
  T. Miyamoto (Tokyo Inst. Tech.)
  T. Mizumoto (Tokyo Inst. Tech.)
  N. Mori (Yamashita Denso)
  H. Nakajima (Waseda Univ., retired)
  K. Ogawa (Japan Women's Univ.)
  A. Sakai (Ricoh Co., Ltd.)
  H. Shoji (Sumitomo Electric Ind., Ltd.)
  Y. Tsuchiya (Nagoya Inst. Tech.)
  Y. Uozu (Mitsubishi Chemical)
  T. Yamaguchi (Kogakuin Univ.)
  K. Yamamoto (Osaka Univ.)
  S. Yamashita (Univ. Tokyo)
  K. Yokomori (Nanophotonics Eng. Org.)

 

Overseas Members

  E. Acosta (Univ. Santiago de Compostela)
  K. –S. Chiang (City Univ. Hong Kong)
  L. Chrostowski (Univ. British Columbia)
  Y. –J. Kim (Yonsei Univ.)
  S. –L. Lee (Taiwan Tech)
  T. –C. Lu (National Chiao Tung Univ.)
  Y. Luo (Tsinghua Univ.)
  J. Mohr (Karlsruhe Inst. Tech.)
  H. Ottevaere (Vrije Univ. Brussel)
  N. –C. Park (Yonsei Univ.)
  S. Saito (Univ. Southampton)
  H. Tan (Australian National Univ.)
  Z. J. Wong (Texas A&M Univ.)
  K. –T. Yong (Nanyang Technological Univ.)
  K. Yu (KAIST)
  U. D. Zeitner (Fraunhofer IOF)